-  해당 공정 chamber 내 균일하며 정밀한 구멍을 통해 에칭가스 균일하게 분산

              -  CVD 설비, Dry Etch 설비 구성 중요 부품

              ■ 특징 1 : wafer 상부 혹은 하부 장착하여 전극 역할

              ■ 특징 2 : 공정 온도 제어 역할

              ■ 특징 3 : 정확하고 균일한 가스 분사